銻化銦晶體,銻化銦(InSb)晶體基片, 可以采用區(qū)域熔煉、直拉法制備 今日小編分享銻化銦晶體,銻化銦(InSb)晶體基片, 可以采用區(qū)域熔煉、直拉法制備: 描述: 銻化銦(InSb)是一種由元素銦(In)和銻(Sb)制成的結(jié)晶化合物,具有穩(wěn)定的物理化學(xué)性能和優(yōu)良的工藝相容性。它是用于紅外探測(cè)器的III-V族的窄間隙半導(dǎo)體材料,包括紅外熱像儀、FLIR系統(tǒng)、紅外制導(dǎo)導(dǎo)彈系統(tǒng)和紅外天文學(xué)。 以下是銻化銦晶體的基本信息: 晶體結(jié)構(gòu):InSb為立方晶系閃鋅礦型結(jié)構(gòu),晶格常數(shù)0.6478nm。 密度和熔點(diǎn):密度為5.775g/cm3,熔點(diǎn)為525℃。 電子特性:InSb是一種窄帶隙半導(dǎo)體,其室溫禁帶寬度在300K時(shí)為0.17eV,在80K時(shí)為0.23eV。 載流子濃度和遷移率:在室溫下,其本征載流子濃度為1.1×1022/cm3,電子和空穴的遷移率分別為78000cm2/Vs和40000cm2/Vs。 摻雜和導(dǎo)電類型:InSb可以摻雜為N型或P型,其導(dǎo)電類型取決于摻雜類型。 位錯(cuò)密度:位錯(cuò)密度較低,小于2×102cm?2。 應(yīng)用領(lǐng)域:由于其良好的電子特性和光電性能,InSb晶體被廣泛應(yīng)用于制作高靈敏度的光電探測(cè)器、紅外探測(cè)器、激光器等器件。 制備方法:InSb晶體可以采用區(qū)域熔煉、直拉法制備。 不可用于人體,小編RL+2024.1 |
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