2016年電子技術(shù)應(yīng)用第5期 作者:李 紅,賀章擎,徐元中 摘 要: 設(shè)計了一個工作頻率高達20 GHz、最高輸出功率23.4 dBm的CMOS功率放大器(PA),該PA由兩級放大器組成,采用全差分Cascode電路結(jié)構(gòu)。PA的輸入、級間、輸出匹配網(wǎng)絡(luò)均采用片上變壓器實現(xiàn),實現(xiàn)單端輸入、單端輸出,功率合成器用來提高PA的輸出信號擺幅。該PA基于 TSMC 0.18 μm CMOS工藝模型進行設(shè)計,采用Agilent ADS軟件進行PA性能仿真和片上變壓器的設(shè)計,版圖仿真結(jié)果表明:在20 GHz頻段內(nèi),PA的輸入、輸出完全匹配(S11=-13.85 dB、S22=-10.94 dB),小信號增益S21達到21.5 dB,芯片面積僅為0.56 mm2。 0 引言 隨著人們對無線數(shù)據(jù)傳輸速率的要求越來越高,無線收發(fā)器的工作頻率需要相應(yīng)地上升,以實現(xiàn)寬帶高速通信網(wǎng)絡(luò),如已成功應(yīng)用于智能手機的60 GHz收發(fā)器的短距離無線傳輸速率超過4 Gb/s。高頻毫米波無線收發(fā)器早期采用分立元件設(shè)計,具有難度大、成本昂貴和質(zhì)量大等缺陷,不適用于目前智能設(shè)備的應(yīng)用。 CMOS作為IC制作的主流工藝,常用于不同頻率范圍的無線收發(fā)器設(shè)計[1]。頻率越高,收發(fā)器需要采用更小節(jié)點的CMOS工藝,0.18 μm節(jié)點處MOSFET管的最高工作頻率為53 GHz,65 nm MOSFET的最高工作頻率為250 GHz。CMOS工藝節(jié)點下降,MOSFET管可承受的交流電壓擺幅也相應(yīng)變小,對無線收發(fā)器中功率放大器(Power Amplifier,PA)的影響最大,因為PA通常需要處理大信號,MOSFET管可承受電壓擺幅的大小決定了PA的輸出功率。所以,如何基于CMOS工藝設(shè)計一個高頻、高輸出功率的PA是一個難點。 本文基于TSMC 0.18 μm 1P6M CMOS工藝設(shè)計了一個工作頻率達到20 GHz的PA,該PA采用全變壓器耦合的結(jié)構(gòu),輸出端采用功率合成器實現(xiàn)兩路子PA的輸出信號相加,增大PA的輸出功率。版圖仿真結(jié)果表明,該PA的輸出功率可達23.4 dBm,效率為20.1%,芯片面積僅為0.56 mm2。 1 20 GHz PA的電路結(jié)構(gòu) 本文所提出的PA電路如圖1所示,采用兩級放大器結(jié)構(gòu),放大器均為全差分Cascode電路增大PA的增益,避免諧波信號的干擾。射頻信號經(jīng)過輸入變壓器耦合至驅(qū)動級的輸入端,經(jīng)過放大后由級間功分器輸出4路信號至功放級,功放級放大后的信號輸入至功率合成器,最后輸出至負載RL。 輸入變壓器將單端信號轉(zhuǎn)為差分信號,驅(qū)動級共源MOS管的柵端偏置電壓從變壓器的次級線圈接入;級間功分器將兩路輸入信號轉(zhuǎn)為四路差分信號輸出,變壓器的主線圈作為驅(qū)動級電源電壓VDD_DA輸入節(jié)點,次級線圈作為功放級共源MOS管的柵端偏置電壓接入點;輸出功率合成器的作用與級間功分器正好相反,變壓器的主線圈作為功放級電源電壓VDD_PA輸入節(jié)點,考慮到功放級的電流較大,在設(shè)計功率合成器時需要重點考慮金屬耐流。下面詳細介紹以上無源器件的實現(xiàn)。 2 無源器件的設(shè)計 無源器件是20 GHz CMOS PA的關(guān)鍵模塊,其設(shè)計直接影響PA的性能,該PA包括以下3個無源器件:輸入變壓器、級間功分器和輸出功率合成器。為了增加金屬耐流,變壓器、功分器和合成器均采用超厚頂層金屬M6作為主線圈,金屬層M5作為次線圈,主、次線圈垂直堆疊,增加線圈間的耦合,同時減小器件尺寸,3個無源器件的面積分別為:100×174 μm2、150×120 μm2、150×400 μm2,如圖2所示。 圖3所示為應(yīng)用于20 GHz CMOS PA中的片上無源器件的效率仿真結(jié)果,可以看到,在20 GHz處,變壓器、功分器和合成器的效率分別為:89.1%、86.8%和84.1%。其中效率計算公式如式(1)所示[2]:
3 20 GHz PA的版圖設(shè)計 圖4所示為20 GHz CMOS PA的版圖,面積為0.65×0.86 μm2,射頻輸入、輸出端均采用截距為100 μm的GSG(Ground-Signal-Ground)焊盤,其中射頻焊盤S采用高隔離度、低寄生電容的設(shè)計[3],降低片上損耗。MOSFET管的版圖也進行了優(yōu)化設(shè)計,降低寄生電容和電阻,提高MOSFET的性能。為了保證芯片充分接地,襯底接觸孔填充于空白處,電源、接地總線繞版圖四周,方便接線。 4 PA的仿真結(jié)果與分析 基于TSMC 0.18 μm 1P6M CMOS工藝模型對20 GHz PA進行版圖仿真,結(jié)果如圖5~圖7所示。圖5所示為S參數(shù)的仿真結(jié)果,20 GHz處,S11=-13.85 dB、S12=-56.8 dB、S21=21.5 dB、S22=-10.94 dB。圖6所示為單聲大信號的仿真結(jié)果,掃描輸入功率范圍-30~10 dBm,20 GHz PA的最高輸出功率Psat為23.4 dBm,功率附加效率(Power Added Efficiency,PAE)為20.1%,輸出1 dB壓縮點20.43 dBm,功率增益為21.4 dB。圖7所示為PA的諧波分量,可以看到,所提電路結(jié)構(gòu)對諧波分量的抑制均大于40 dB,線性度滿足設(shè)計要求。 5 結(jié)束語 基于TSMC 0.18 μm 1P6M RFCMOS工藝設(shè)計了一個工作頻率為20 GHz的PA,采用變壓器耦合結(jié)構(gòu)實現(xiàn)射頻信號傳輸和阻抗匹配。高效率的片上無源器件優(yōu)化了PA的整體性能,功率合成器用以提高PA的輸出功率。所設(shè)計20 GHz CMOS PA的最高輸出功率可達23.4 dBm,20.1% PAE,芯片面積僅為0.56 mm2,可應(yīng)用于下一代無線移動通信系統(tǒng)。 參考文獻 [1] LEI A K Y,DECLERCQ M.A GSM-GPRS/UMTS FDD-TDD/WLAN 802.11a-b-g multi-standard carrier generation system[J].IEEE J.Solid-State Circuits,2006,41(7):1513-1521. [2] ZOLFAGHARI A,CHAN A,RAZAVI B.Stacked inductors and transformers in CMOS technology[J].IEEE J.Solid-State Circuits,2001,36(4):620-628. [3] LAM S,MOK P K T,KO P K,et al.High-isolation bonding pad design for silicon RFIC up to 20 GHz.IEEE Electron Device Lett.,2003,24(9):601-603. [4] CAO C,XU H,SU Y,et al.An 18-GHz,10.9-dBm fully-integrated power amplifier with 23.5% PAE in 130-nm CMOS[C].IEEE European Solid-State Circuits Conference.Grenoble:IEEE,2005:137-140. [5] FERNDAHL M,JOHANSSON T,ZIRATH H.20 GHz power amplifier design in 130 nm CMOS[C].IEEE European Microwave Integrated Circuit Conference. Amsterdam:IEEE,2008:254-257.
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