7月8日，中國感光學(xué)會(huì)在中科院理化所組織召開2020十大工程技術(shù)難題——“如何突破光刻技術(shù)難題”專家座談會(huì)。座談會(huì)采用現(xiàn)場和視頻同步方式召開。

中國科學(xué)院院士楊萬泰、佟振合、彭孝軍、吳驪珠，中國工程院院士許祖彥、羅先剛、劉文清，中國感光學(xué)會(huì)理事長、理化所所長張麗萍，名譽(yù)理事長蒲嘉陵，副理事長楊建文、鄒應(yīng)全，榮譽(yù)理事洪嘯吟，秘書長、理化所副所長汪鵬飛，常務(wù)副秘書長任俊，選題撰寫作者梁紅波，工業(yè)和信息化部、國家自然科學(xué)基金委員會(huì)、科技部高新技術(shù)司有關(guān)領(lǐng)導(dǎo)，高校、科研院所和行業(yè)企業(yè)專家代表共60余人參加了座談會(huì)。張麗萍理事長主持會(huì)議。

為研判未來科技發(fā)展趨勢、前瞻謀劃和布局前沿科技領(lǐng)域與方向，瞄準(zhǔn)世界科技前沿，推進(jìn)世界科技強(qiáng)國建設(shè)，中國科協(xié)通過各全國學(xué)會(huì)、學(xué)會(huì)聯(lián)合體、部分中央企業(yè)和非公企業(yè)科協(xié)，面向廣大科技工作者征集“2020重大科學(xué)問題和工程技術(shù)難題”。

張麗萍理事長首先介紹了中國感光學(xué)會(huì)提出的難題提案——“如何突破光刻技術(shù)難題”入選2020年十大重大工程技術(shù)難題的相關(guān)情況和中國科協(xié)對入選問題難題的后續(xù)工作要求。

選題撰寫作者南昌航空大學(xué)梁紅波教授匯報(bào)了工作進(jìn)展，詳細(xì)介紹了“如何突破光刻技術(shù)難題”的問題背景、重要意義、最新進(jìn)展、主要難點(diǎn)及其相關(guān)政策建議等。楊建文副理事長對工作進(jìn)展進(jìn)行了補(bǔ)充。

在研討環(huán)節(jié)，與會(huì)專家圍繞突破光刻技術(shù)難題的進(jìn)展情況、光刻技術(shù)面臨的主要問題、光刻技術(shù)應(yīng)用情況以及突破難題的技術(shù)與政策建議等進(jìn)行了熱烈討論，為進(jìn)一步完善專題建議報(bào)告提出了意見和建議。會(huì)后，學(xué)會(huì)將及時(shí)總結(jié)材料，形成《科技工作者建議》，呈報(bào)相關(guān)部門決策參考使用。

此次座談會(huì)旨在跟蹤了解難題研究進(jìn)展，分析難點(diǎn)與挑戰(zhàn)，提出技術(shù)與政策建議，形成難題研究專項(xiàng)報(bào)告《科技工作者建議》，使入選問題難題服務(wù)國家科技決策、納入國家規(guī)劃、與國家重大工程項(xiàng)目結(jié)合，推動(dòng)關(guān)鍵技術(shù)聯(lián)合攻堅(jiān)、促進(jìn)應(yīng)用推廣，為我國光刻技術(shù)跨越發(fā)展，解決微電子制造的“卡脖子”技術(shù)難題做出貢獻(xiàn)。

理化技術(shù)，創(chuàng)新為民