側(cè)腦室額角入路是臨床常用穿刺入路，不同作者對手術(shù)方法描述不盡相同，部分文獻甚至提出錯誤方法。本研究利用30例正常國人薄層CT掃描數(shù)據(jù)，對側(cè)腦室額角入路穿刺的相關(guān)解剖標志進行測量，得出穿刺方式，并應(yīng)用于臨床，現(xiàn)將測量數(shù)據(jù)與臨床應(yīng)用報告如下。

1 方法

CT薄層掃描DICOM數(shù)據(jù)應(yīng)用Voxar－3D軟件自理，顯示經(jīng)中線的矢狀面及經(jīng)雙側(cè)外耳道與室間孔的冠狀面，以MPR－curved模式測量兩切面在頭皮中線的交點與眉間距離。以MPR－standard模式在冠狀切面內(nèi)進行多項數(shù)據(jù)測量，選擇中線旁2.5cm為穿刺點，分別測定雙側(cè)穿刺點到室間孔之間的連線與矢狀面夾角，穿刺點顱骨內(nèi)板與同側(cè)室間孔的距離及與額角上壁的距離；穿刺道方向腦室前角的高度；從而確定穿刺點、穿刺角度及穿刺深度，并對比雙側(cè)是否存在不同。利用所測量數(shù)據(jù)總結(jié)穿刺方法，并將其應(yīng)用于臨床病例，觀察首次穿刺成功率，術(shù)后引流是否通暢及是否發(fā)生意外機械損傷。

2 結(jié)果

2.1 正常人CT掃描數(shù)據(jù)（表1；圖1）

經(jīng)室間孔及雙側(cè)外耳道平面和矢狀中線交點與眉間距離為（100.2±5.5）mm。穿刺點到室間孔連線與矢狀面間夾角約為17°，雙側(cè)無統(tǒng)計學差異。腦室額角寬度，穿刺點與同側(cè)側(cè)腦室前角上壁距離，穿刺點與室間孔距離，穿刺方向側(cè)腦室前角高度，雙側(cè)無統(tǒng)計學差異。

2.2 臨床應(yīng)用（圖2）

16例病人共行23側(cè)側(cè)腦室額角穿刺術(shù)，首次穿刺成功率為100%，術(shù)后引流管均通暢，無因腦室額角陷閉造成繼發(fā)性引流管阻塞，無穿刺道出血及丘腦和腦干損傷。

3 討論

3.1 額角穿刺的定位及穿刺角度

目前臨床常用的額角穿刺方法為穿刺點在冠狀縫前及中線旁各2.5cm，穿刺方向與矢狀面平行，對準兩側(cè)外耳道假想連線，深度不超過5cm。本研究測量垂直于外耳道連線、經(jīng)室間孔的冠狀面與頭皮中線的交點，距離眉間約為10cm（圖1A），因此，采用眉間上方10cm，中線旁開2.5cm為穿刺點，此穿刺點位置較固定，易于記憶，避免因?qū)跔羁p位置理解錯誤造成定位誤差，并可有效避免額葉內(nèi)側(cè)皮質(zhì)損傷及可能的硬膜靜脈間腔損傷。本研究測定正常雙側(cè)側(cè)腦室額角外緣距矢狀面的距離約為17mm（圖1B），明顯小于2.5cm。由此可知，中線旁開2.5cm、平行于矢狀面穿刺并不能保證穿刺管進入前角。本研究測定的穿刺角度為向內(nèi)側(cè)傾斜并與矢狀面保持約17°（圖1C），可保證穿刺方向指向室間孔。

3.2 穿刺深度

穿刺深度應(yīng)從自顱骨內(nèi)板開始計算，實際深度應(yīng)為腦實質(zhì)內(nèi)走行長度加腦室內(nèi)穿刺管長度，腦室內(nèi)長度以不超過1cm為宜，本研究測量的穿刺方向腦實質(zhì)深度約為39mm（圖1D）。因此，穿刺深度不應(yīng)超過5cm，考慮穿刺管存在一定長度盲端，穿刺深度不宜少于4.5cm，穿刺過深易損傷丘腦甚至中腦，穿刺過淺則易造成引流管脫出腦室。

3.3 臨床應(yīng)用

觀察16例（共23側(cè)）急性非交通性腦積水病例結(jié)果，該穿刺方法具有定位精確、成功率高、引流通暢的特點，所有病例首次穿刺均成功，無穿刺道出血，無丘腦及腦干損傷病例，說明其為一種安全有效的穿刺方法。

綜上所述：

作者認為腦室額角穿刺方法可以為眉間上方10cm，中線旁開2.5cm為穿刺點，指向雙側(cè)外耳道假想連線，向內(nèi)側(cè)傾斜，與矢狀面保持17°夾角，進管深度范圍4.5-5.0cm。這樣可保證手術(shù)穿刺成功率，保持引流通暢并盡可能避免機械損傷造成的并發(fā)癥。