赫氏槽已經(jīng)成為世界各地電鍍操作的一個(gè)必須部分。解決電鍍故障最快方法就是用赫氏槽實(shí)驗(yàn)，它能讓我們檢驗(yàn)電鍍?nèi)芤褐兄饕煞之a(chǎn)生的影響,找出一些鍍液不良產(chǎn)生的規(guī)律。

今天我們樂(lè)將平臺(tái)，就詳細(xì)的從理論到實(shí)踐看赫氏片，深入分享赫氏槽操作技巧，希望為我們的電鍍技術(shù)人員深入了解赫氏槽實(shí)驗(yàn)提供最有用的資料。

赫爾槽是一種簡(jiǎn)單而又快速的小型電鍍?cè)囼?yàn)槽，由于赫爾槽試驗(yàn)的效果好；速度快；操作簡(jiǎn)便；耗用鍍液的體積少, 所以很受電鍍從業(yè)人員歡迎, 已在電鍍工藝的小型試驗(yàn)中獲得了廣泛的應(yīng)用。

一，常見(jiàn)的赫氏槽種類

不同容積的赫爾槽, 它的尺寸也不同。常用容積為267毫升和1000毫升的兩種赫爾槽陽(yáng)極尺寸為63*63毫米, 其材料一般與生產(chǎn)中使用的陽(yáng)極一樣。陽(yáng)極形狀一般為平面薄片, 對(duì)于一些易于鈍化的陽(yáng)極,可制成瓦楞形或網(wǎng)狀赫爾槽陰極是長(zhǎng)方形的平面薄片。而陰極其尺寸為102*63毫米, 厚度可在0.25-1毫米之間。材料一般用鐵片包括鍍鋅鐵片；銅片或黃銅片等。材料的表面狀況最好是相同, 以利于結(jié)果的對(duì)比。

二．、赫氏槽陰極上的電流分布

從赫氏槽中陰極和陽(yáng)極布置的位置, 就可以看出陰極上各個(gè)部位與陽(yáng)極的距離是不等的, 顯然陰極各部位上的電流密度也是不一樣的。

遠(yuǎn)離陽(yáng)極的一端稱遠(yuǎn)端, 它與陽(yáng)極的距離最遠(yuǎn), 電流密度最小, 隨著陰極與陽(yáng)極的距離逐步靠近, 它的電流密度就逐步增大, 直至離陽(yáng)極最近的一端稱近端,它的電流密度最大。赫氏槽陰極上遠(yuǎn)端至近端的電流密度變化有多倍, 這樣,做一次赫氏槽試驗(yàn), 就可以看出相當(dāng)寬的電流密度范圍內(nèi)電鍍層的質(zhì)量情況, 僅這一個(gè)方面, 已足夠顯示出赫氏槽試驗(yàn)的優(yōu)越性。

三．赫氏槽試驗(yàn)的樣液

必須注意所取樣液應(yīng)具有代表性。與化驗(yàn)分析取樣大致相同，鍍液必須事先經(jīng)過(guò)充分混和才能取樣。在混和有困難時(shí), 一般可用直徑為一厘米的玻璃管, 一端慢慢插入溶液, 然后將另一端用手指封閉, 在溶液不同部位吸取樣液。在重復(fù)做試驗(yàn)時(shí), 每次試驗(yàn)所取樣液的體積應(yīng)相同。當(dāng)使用不溶性陽(yáng)極時(shí), 鍍液經(jīng)試驗(yàn)次后, 即行調(diào)換新液。在可溶性陽(yáng)極的場(chǎng)合下, 一般每批試驗(yàn)一次, 最多每批試驗(yàn)一次后應(yīng)調(diào)換新液

四、赫氏槽試驗(yàn)的規(guī)范

試驗(yàn)時(shí)的電流強(qiáng)度, 應(yīng)根據(jù)鍍液的性能來(lái)決定。若鍍液的電流密度上限較大, 則試驗(yàn)時(shí)的電流強(qiáng)度應(yīng)大一些, 反之則相反。一般半光亮鎳、亮鎳、光亮酸銅：2A 攪拌鍍5min 左右;專門考察整平能力時(shí)鍍10min。硫酸鹽光亮鍍錫：1A 攪拌鍍5min。氯化物鍍鋅：2A 靜鍍5min。 鋅酸鹽鍍鋅：3A 靜鍍5min。無(wú)氰堿銅：1A 攪拌鍍5min。氰化鍍銅：2A 靜鍍( 3 -5) min。

五、陰極樣板的繪圖記錄和保存

試驗(yàn)過(guò)的樣板上鍍層的狀況, 往往為了便于對(duì)比或總結(jié)等, 需要將樣板上的情況繪圖記錄下來(lái), 或者將樣板保存起來(lái)。繪圖記錄樣板上鍍層狀況, 有的在圖案中用文字說(shuō)明, 但一般用符號(hào)表示, 記錄鍍層狀況的符號(hào)如圖6。

下圖是一塊典型的赫氏槽樣板圖。其左方的電流密度較高, 右方的電流密度較低。在這塊樣板里, 甲部分的表面是燒黑而粗糙, 乙部分發(fā)暗, 丙部分光亮, 丁部分或是沒(méi)有鍍層或是鍍層極薄。一個(gè)很好的記錄方式是將圖中樣板的虛線間的鍍層狀況描繪下來(lái)。陰極樣板除了繪圖記錄外, 也可以將試驗(yàn)過(guò)的樣板, 進(jìn)行干燥后涂上清漆而保存起來(lái)。

五、赫氏槽的應(yīng)用及應(yīng)用實(shí)例

從赫氏槽陰極上電流分布的情況來(lái)看,它的遠(yuǎn)端和近端的電流密度值相差很大,267毫升的相差達(dá)50多倍, 1000毫升的相差達(dá)130倍, 這樣, 就有利于我們?cè)谝粔K陰極板上觀察到不同電流密度值下鍍層狀況的差異。假使某一因素的改變, 能夠引起赫氏槽陰極樣板上鍍層狀況發(fā)生視力所能辨明的變化, 那么赫氏槽試驗(yàn)就有可能用來(lái)了解這一因素的變化情況。

實(shí)踐證明, 能夠引起赫氏槽陰極樣板上鍍層狀況發(fā)生明顯變化的因素很多, 如鍍液成分、操作條件的變化, 各類雜質(zhì)的影響等, 它們都可能對(duì)赫氏槽陰極樣板上鍍層狀況引起不同程度的差異, 所以赫氏槽的應(yīng)用范圍就比較廣。下面我們團(tuán)隊(duì)為大家引例兩則

例 1.要確定光亮鍍鎳液中，主光劑的適宜含量。試驗(yàn)條件溫度50度時(shí)間5分鐘, 1安培。

1）.鍍液無(wú)主光劑試片如下：

2）.鍍液加2ml/L主光劑試片如下

3）.鍍液加4ml/L主光劑試片如下

4）.鍍液加8ml/L主光劑試片如下

試驗(yàn)結(jié)果表明在這種光亮鍍液中, 主光劑不宜多加, 以含2ml/L左右比較適宜。

例 2.測(cè)定光亮鍍鎳溶液少量鋅雜質(zhì)的含量。

1） 取故障鍍液做試驗(yàn), 樣板如下

2）而正常鍍液中加入克升做試驗(yàn), 樣板如下

故障液中鋅雜質(zhì)含量大致在0.3克升左右用化學(xué)分析法測(cè)定鋅雜質(zhì)含量, 不熟練的操作者需花一天時(shí)間, 用赫爾槽測(cè)定不用1小時(shí)

六。鍍液發(fā)生故障, 往往有一個(gè)量變到質(zhì)變的過(guò)程。有時(shí)電鍍生產(chǎn)中還沒(méi)有出現(xiàn)明顯的故障, 而在赫氏槽試驗(yàn)的樣板上已經(jīng)可以覺(jué)察到了。例如在光亮鍍鎳液中, 鋅雜質(zhì)的含量一般達(dá)克升時(shí), 才能在生產(chǎn)中覺(jué)察到它對(duì)鍍層的危害。而用赫氏槽試驗(yàn), 其含量達(dá)克升時(shí), 就能在樣板上反映出它的影響。

所以, 假使我們事先對(duì)某些鍍液中各類雜質(zhì)的影響, 做好一系列反映不同情況的赫氏槽樣板, 將其記錄或保存起來(lái)作為對(duì)照, 然后在電鍍生產(chǎn)時(shí), 定期做赫氏槽試驗(yàn)。當(dāng)發(fā)現(xiàn)赫氏槽陰極樣板上反映出鍍液即將要發(fā)生故障時(shí)可以事先防止故障的發(fā)生。

七，最后 隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展, 赫爾槽也在不斷地被人們史新改進(jìn)。在美國(guó)的《MetaI Finishing 》雜志上曾報(bào)導(dǎo)過(guò)這樣一于赫爾槽。該槽可從試片的背面給出試驗(yàn)結(jié)果。

如在屏蔽電流的陰極背面可復(fù)驗(yàn)沉積層特性, 復(fù)驗(yàn)其覆蓋能力。在陽(yáng)極背面測(cè)試陽(yáng)極的抗腐蝕能力。該槽在其底部開(kāi)一園孔用來(lái)按裝磁力攪拌。同時(shí)不會(huì)對(duì)鋼片陰極和鎳陽(yáng)極產(chǎn)生磁性吸引。糟內(nèi)部裝有溫度計(jì), 但對(duì)電流的通過(guò)不產(chǎn)生干擾。對(duì)于室溫的滾鍍液, 可用機(jī)械攪拌, 如酸性鍍錫銀、錫一鉛, 酸性鍍鋅和堿性鍍鋅。

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