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三極管的工作原理

 穴位經絡調理 2010-08-01
三極管的工作原理

 

(本文以NPN型三極管為例)

前言

相信很多初學電子的朋友,在剛接觸三極管的時候,都很難理解其原理,筆者當初就是如此。雖然知道它的作用是可以用小電流控制大電流——電流放大作用,但對于里面的原理卻一直困惑。在網上找了很多資料,對其原理描述都很模糊。筆者查詢了和三極管相關的半導體資料,對其原理有進一步的認識,想拿出來和各位電子初學者一起學習,同時希望拋磚引玉,學習其他電子愛好者的觀點。

關鍵字:三極管 原理 電子初學者 電子愛好者

一、概念理解

1、N型半導體:又為電子型半導體在純凈的硅晶體中通過特殊工藝摻入少量的五價元素(如磷、砷、銻等)而形成,其內部自由電子濃度遠大于空穴濃度。所以,N半導體內部形成帶負電的多數載流子——自由電子,少數載流子是空穴。N型半導體主要靠自由電子導電。由于自由電子主要由所摻入的雜質提供,所以摻入的五價雜質越多,自由電子的濃度就越高,導電性能就越強。而空穴由熱激發(fā)形成,環(huán)境溫度越高,熱激發(fā)越劇烈。

2、P半導體:又稱為空穴型半導體。在純凈的硅晶體中摻入三價元素(如硼)而形成,其內部空穴濃度遠大于自由電子濃度,所以,P半導體內部形成帶正電的多數載流子——空穴,而少數載流子是自由電子。P型半導體主要靠空穴導電。由于空穴主要由所摻入雜質原子提供,摻入三價的雜質越多,空穴的濃度就越高,導電性能就越強。而自由電子是由熱激發(fā)形成,環(huán)境溫度越高,熱激發(fā)越激烈。

3、PN結及特性:P型和N型半導體接觸時,在界面附近空穴從P型半導體向N型半導體擴散,電子從N型半導體向P型半導體擴散??昭ê碗娮酉嘤龆鴱秃?,載流子消失。因此在界面附近的結區(qū)中有一段距離缺少載流子,卻有內建一個由N區(qū)指向P區(qū)的內電場。由于內電場是由多子建成,所以達到平衡后,內建電場將阻擋多數載流子的擴散,但不能阻止少數載流子。P區(qū)和N區(qū)的少數載流子一旦接近PN結,便在內電場的作用下漂移到對方。

PN結的單向導電性

外加正向電壓(正偏):在外電場作用下,多子將向PN結移動,結果使空間電荷區(qū)變窄,內電場被削弱,有利于多子的擴散而不利于少子的漂移,擴散運動起主要作用。結果,P區(qū)的多子空穴將源源不斷的流向N區(qū),而N區(qū)的多子自由電子亦不斷流向P區(qū),這兩股載流子的流動就形成了PN結的正向電流。

外加反向電壓(反偏):在外電場作用下,多子將背離PN結移動,結果使空間電荷區(qū)變寬,內電場被增強,有利于少子的漂移而不利于多子的擴散,漂移運動起主要作用。漂移運動產生的漂移電流的方向與正向電流相反,稱為反向電流。因少子濃度很低,反向電流遠小于正向電流。當溫度一定時,少子濃度一定,反向電流幾乎不隨外加電壓而變化,故稱為反向飽和電流。

4、擴散和漂移:多數載流子移動時擴散,少數載流子移動時漂移。

5、復合:電子和空穴相遇就會復合,大量的電子-空穴對復合就形成電流。

6、空間電荷區(qū)也稱耗盡層PN結中,由于自由電子的擴散運動和內電場導致的漂移運動使PN結中間的部位(P區(qū)和N區(qū)交界面)產生一個很薄的電荷區(qū),它就是空間電荷區(qū)在這個區(qū)域內,多數載流子已擴散到對方并復合掉了,或者說消耗殆盡了,因此,空間電荷區(qū)又稱為耗盡層。P區(qū)一側呈現負電荷,N區(qū)一側呈現正電荷,因此空間電荷區(qū)出現了方向由N區(qū)指向P區(qū)的內電場。內電場將阻礙多子的擴散,而少子一旦靠近PN結,便在內電場的作用下漂移到對方。PN結正偏時,內電場減弱,有利于多子的擴散而不利于少子的漂移。PN結反偏時,擴散運動使空間電荷區(qū)加寬,內電場增強,有利于少子的漂移而不利于多子的擴散。

7、內電場:PN結附近空間電荷區(qū)中,方向由N區(qū)指向P區(qū)的內電場。內電場對多數載流子起隔離作用,而對少數載流子起導通作用。

8、載流子:可以自由移動的帶有電荷的物質微粒,如電子和離子。金屬中為電子,半導體中有兩種載流子即電子和空穴。

9、少數載流子:P型半導體地少數載流子是自由電子,N型半導體中是空穴。

10、二極管:單向導電性。正偏多數載流子可以通過,反偏少數載流子可以通過。反偏時P型半導體和N型半導體不能提供源源不斷的少數載流子,所以反偏近似無電流。

二、三極管的工藝要求及作用

1、發(fā)射區(qū)摻雜濃度高:確保發(fā)射區(qū)中有足夠多的多數載流子——電子,當基極電壓高于發(fā)射極的時候,才有足夠多的電子擴散到基極。

2、基區(qū)做得非常?。嚎梢愿玫淖尰鶚O(P型半導體)中的少數載流子——電子漂移到集電極。

三、工作條件

1、集電極電壓(Vc)大于基極電壓(Vb),基極電壓(Vb)稍高于發(fā)射極電壓(Ve)。即:Vc>Vb>Ve,其中Vb一般高于Ve0.7V;Vc常見電壓比Ve12V。這樣就使得集電結反偏,發(fā)射結正偏。

2、如要取得輸出必須加負載電阻。

四、三極管的工作原理

 

圖解如下:

圖片
照片名稱:三極管工作原理,所屬相冊:電子
NPN型三極管工作原理圖

五、關于三極管的問題

1、集電極(C極)處于反偏狀態(tài),為什么還有電流通過?

答:PN結正偏情況下是利于“多數載流子”通過,而反偏則利于“少數載流子”通過,對于基極(B極)來說,它的少數載流子是電子,而當基極電壓高于發(fā)射極,有電流注入時,發(fā)射結正偏導通,發(fā)射區(qū)向基區(qū)擴散大量電子。這些電子在內電場的作用下漂移到C極。從三極管外部看來,電流能通過反偏的集電結,其實,要分清楚“多子”、“少子”的區(qū)別。P型半導體的多子是空穴,少子是自由電子;N型半導體的多子是自由電子,少子是空穴。

2、為什么集電極要加上很高的電壓?

答:電壓高能使集電結的內電場更強,作用在少子上的力更大,有利于少子、尤其是從基區(qū)漂移到發(fā)射區(qū)的電子;同時阻止多子的通過。

3、為什么基區(qū)要做得很???

答:因為少子越貼近內電場,就越容易受其作用漂移到PN結對面。如果做得太厚,那進入基區(qū)的電子就不能很好地受內電場的作用,不能很好地漂移到集電區(qū),所以要從生產工藝上把它做得很薄,厚度一般在幾個微米至幾十個微米。

4、為什么發(fā)射區(qū)的摻雜濃度最高?

答:發(fā)射區(qū)摻雜濃度高才有更多的多數載流子,P型半導體中的多子是空穴,而NPN型半導體的發(fā)射區(qū)是N型半導體,摻雜濃度高使其有更多的自由電子,這樣在基極和發(fā)射極的電壓差(基極高于發(fā)射極)作用下,才有更多電子擴散到基區(qū)。假設發(fā)射區(qū)的摻雜濃度和基區(qū)濃度相同,那么擴散到基區(qū)的電子絕大多數會跟基區(qū)的空穴進行復合掉,電流的放大能力下降。

5、放大倍數β如何確定?

答:在生產過程中,控制基區(qū)的厚度和各個區(qū)的摻雜濃度,就能生產出不同放大倍數β的三極管。

6、基極(B極)小電流如何控制集電極大電流?

答:當基極沒有電流的時候,集電結幾乎沒有電子通過;基極電流慢慢增大時,集電結在正偏電壓作用下,多子逐漸激烈地向基區(qū)擴散。由于基區(qū)摻雜濃度低,擴散到集電區(qū)的多子少,需要外部注入的電流小。發(fā)射區(qū)摻雜濃度高,擴散到基區(qū)的多子多,需要外部注入的電流大。放大倍數跟基區(qū)厚度、發(fā)射區(qū)摻雜濃度成正比。發(fā)射極跟基極復合的電子非常少,主要被集電結的內電場拉到集電區(qū),集電極電流近似于發(fā)射極電流。外部注入基極電流越大,發(fā)射區(qū)到基區(qū)的電子擴散就越激烈,漂移到集電區(qū)的電子也越多。在三極管的外部看來,發(fā)射極電流和集電極電流也急劇增大。

7、用兩個二極管可否焊接成一個三極管?

答:雖然兩個二極管能結成一個NPNPNP型的三極管,但其內部硅晶體的摻雜濃度不同于三極管,再者“基極”沒能做得很薄,漂移過“集電結”的少子相當少(不是沒有),因此發(fā)射極中的載流子幾乎不能到達集電結。

六、其它資料請查閱其它網頁或書籍。

以上是筆者對三極管的工作原理的淺釋,適合初學電子基礎的朋友參閱,希望對初學電子的朋友有所幫助。由于筆者閱歷淺和實踐經驗不足,在撰寫的過程難免有疏漏,請各位讀者批評指正

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